镀膜机厂家-价位合理的直流磁控濺射镀膜设备供应

镀膜机厂家，价位合理的直流磁控濺射镀膜设备供应， 恒誉真空综合实力雄厚，技术水平高，售后服务完善。公司勤于市场发展需求，致力于打造直流磁控濺射镀膜设备生产、销售集成式服务，该产品用于通过磁控溅射的方法能在工件表面镀制各种金属，或其化合物膜层，以达到改变其光电磁性能或起到装饰性功效，因质量、生产工艺等方面言语，颇受中小企业欢迎，并且在全国;广东极为好销售，产品种类、型号等可根据客户要求供应。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司始建于2012-07-23，是一家机械和行业设备专用配件有限责任公司。公司主要生产直流磁控濺射镀膜设备，经过多年的长期发展和技术革新，现已发展成一家专门的公司。为了扩大本行业市场需求，现诚邀广大的新老客户前来咨询，与我司共同建有质量文化的质量体系，创造有魅力、有灵魂的产品。

恒誉真空技术力量雄量，制造设备精良，检验手段成熟，现已发展成为集设备研发、生产制造、销售服务于一体的高新技术企业。恒誉真空依靠高素质的员工，健全的工艺设备，完整的质量管理体系，产品售出后质保一年的售后服务，不断开拓创新，为广大中小企业提供可靠的直流磁控濺射镀膜设备。

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平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高，但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面，基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念，即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极，两极磁力线在靶面不完全闭合，部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域，从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片，增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。

旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易，而实际操作困难。

主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

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